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ローカライズされたプロセス分離
ミニ環境クリーンルーム
敏感なプロセスの周りにクリーンエア制御に焦点を当てます。構成可能なミニ環境は、機器の周囲にエンクロージャー、ろ過、アクセスをまとめ、ローカルプロセスゾーンを周囲のアクティビティから分離するのに役立ちます。
1カスタマイズ可能なエンクロージャのプラットホーム
調整されたプロセス保護
01ローカライズされた保護を必要とするプロセスツール、製品パス、エンクロージャフットプリントを提供します。
02アクセスパネル、ロードポート、オペレーターの開口部、機器周辺のメンテナンスクリアランスを定義します。
03HEPAまたはULPAのろ過、気流の方向、イオン化、および照明の要件を確認します。
04ユーティリティの浸透、制御インターフェイス、材料と転送の接続、および周囲の部屋の制約をリストします。
クリーンルームのミニ環境を選択する方法
操作タスクとサイトの制約から始めて、使用目的に最もよく一致する製品の方向性を比較します。
| バイヤーの要件 | 製品の方向性 | なぜそれが役立つのか |
|---|---|---|
| 1つの半導体処理または検査プロセスを保護する | 半導体ミニ環境 | 定義されたツールと製品パスの周りにフィルターされた気流を備えた、低脱落のローカライズされたエンクロージャーを作成します。 |
| 人員とメンテナンスアクセスを調整する | スライド式またはヒンジ式アクセスパネルの設定 | 通常の操作とサービスクリアランスを実際の機器配置に一致させます。 |
| サポート粒子敏感またはESD敏感な処理 | 端末のフィルタリングとオプションのイオン化を設定する | 特定されたプロセス要件に関するクリーンエアおよび静電制御機能を選択します。 |
| エンクロージャをプロダクションツールに接続する | ツール固有のユーティリティ侵入の設定 | 実際の電力、データ、ガス、排気または転送接続用の密閉インターフェースを計画しています。 |
ミニ環境の設定
機器、アクセス、クリーンエアの要件の周りに制御されたワークスペースを構築します。以下のオプションを調べて、調整された見積もりを求めてください。
1設定可能なプラットフォーム
- ターミナルろ过
HEPA、ULPA - アクセスパネル
スライド、ヒンジ付き - プロセスの特徴
イオン化、タスク照明、イオン化およびタスク照明、追加機能なし - ツールインターフェース
プロジェクト固有のユーティリティ浸透、プロジェクト固有の転送インターフェイス、スタンドアロンエンクロージャ
選択したすべてのフィルターに一致するモデルはありません。
1つ以上のフィルターをリセットして、より広いグループを比較します。
1つ以上のフィルターをリセットして、より広いグループを比較します。
アプリケーションのソリューション
プロセスの課題を克服する
プロセスが実際に機能する方法の周りにクリーンエアエンクロージャーを構築します。エンクロージャーが製品保護と日常業務の両方をサポートするように、機器のフットプリント、材料移送開口部、メンテナンスアクセス、ろ過、ユーティリティインターフェースの調整をお手伝いします。
完全な部屋は、密接なローカル制御を必要とする重要なプロセスエリアよりも大きい。定義されたツールとプロダクトパスの周りにコンパクトなフィルタリングされたエンクロージャを作成します。
標準のエンクロージャーの寸法は、ロードポートやメンテナンスアクセスを妨げます。実際の機器レイアウトからパネルの位置、開口部、クリアランスを設定します。
計画外のユーティリティの侵入は、インストール後に難しいインターフェイスを作成します。エンクロージャパネルが完成する前に、電力、データ、ガス、排気、および転送の接続を一覧表示します。
選択したろ過または気流の配置は、プロセス感度と一致しません。HEPAまたはULPAろ過と、特定されたプロセス要件の周囲の気流経路を調整します。
ESD制御とタスクの可視性は、エンクロージャー内の個別の障害物として追加されます。統合されたプロセス機能として、オプションのイオン化とタスク照明を計画します。
アプリケーションに必要なものを教えてください
- 処理工程と取り扱う製品
- 製造装置の図面とエンクロージャ設置面積
- 作業者、ロードポート、保守アクセス
- HEPAまたはULPAろ過の希望
- 気流方向と周囲室の条件
- イオン化・照明要件
- 電源、データ、ガス、排気、ユーティリティの貫通部
- 資材搬送・制御インターフェース
クリーンルーム設備を一緒に計画する
クリーンルーム・ミニ環境を選ぶ前に
ミニ環境は、感度の高い工程の周囲にろ過気流と管理アクセスを集中させます。周囲の室にも統合された環境設計が必要ですが、局所エンクロージャは重要な製造装置と製品の経路を対象にします。
パネル配置、アクセス開口、ユーティリティ貫通部は、実際の製造装置図面と保守クリアランスに基づいて調整できます。
既存プラットフォームには、気流、圧力、工程要件を満たす範囲で、適切なHEPAまたはULPA末端フィルタ段を構成できます。
製造装置レイアウト、工程フロー、アクセス箇所、エンクロージャ設置面積、ろ過要件、ユーティリティ、イオン化または照明要件、周囲室の制約をお知らせください。
クリーンルーム・ミニ環境を構成しますか？
設備図面、アクセス要件、ろ過要件をお送りください。工程に合わせた構成を相談し、見積りをご依頼ください。
