Inglês
Portuguêsatual
Espanhol
Língua malaia
Língua indonésia
Alemão
Língua turca
Vietnã
Francês
Língua russa
Língua árabe
Tailandês
Japonês
Coreano
Equipamento de sala limpa específico da indústria
Filtro Químico FFU
Uma unidade de filtro de ventilador de teto ou mini-ambiente que combina meios químicos de fase gasosa com filtração de partículas final para controle de AMC localizado.
- Filtração Química Gás-Fase
- Ventilador EC integrado
- Filtro de partículas final
- Cassetes de mídia substituíveis
Introdução do produto
O filtro químico FFU retira ar de retorno ou ambiente através de meios de fase gasosa selecionados antes de entregá-lo através de um filtro de partículas final e difusor uniforme. Carvão ativado, meio impregnado ou quimiisorbentes misturados podem ser selecionados ao redor do contaminante molecular aéreo alvo. Um ventilador CE compacto e uma gaveta de mídia modular suportam a instalação local acima de mini-ambientes semicondutores, zonas de processo sensíveis ou posições de grade de teto.
Características-chave
Um filtro de partículas final captura a poeira da mídia e as partículas transportadas pelo ar antes que o ar de suprimento entre na zona protegida.
O controle do ventilador EC fornece fluxo de ar ajustável para balanceamento de pressão e compensação de carregamento do filtro.
As gavetas de serviço permitem a substituição de meios químicos sem desmontar o alojamento completo da unidade.
Soluções para sua aplicação
Os processos de semicondutores sensíveis precisam de controle de contaminantes moleculares, bem como de partículas, geralmente dentro de um teto limitado ou profundidade de envelope de ferramenta.
Um HEPA FFU convencional não remove gases ou contaminantes moleculares transportados pelo ar.Os estágios dedicados de adsorvente e quimiossorvente removem as espécies moleculares alvo antes da filtração final.
Um grau de carbono universal não pode abordar com eficiência todas as famílias de contaminantes.As cassetes modulares permitem que a química da mídia seja selecionada para ácidos, bases, orgânicos ou dopantes.
A substituição da mídia pode interromper a zona de processo protegida.As gavetas de serviço acessíveis encurtam o tempo de mudança e mantêm a caixa do ventilador/filtro instalada.
O aumento da resistência do filtro reduz o fluxo de ar ao longo do tempo.O controle ajustável do ventilador EC restaura o fluxo necessário dentro da faixa de operação do equipamento.
Aplicações típicas
Mini-ambientes semicondutoresÁreas de processo de fotolitografiaZonas de metrologia sensíveis a produtos químicosControle AMC localizado acima do manuseio de wafer
Parâmetros técnicos
Valores de construção típicos para uma unidade compacta de filtro de ventilador de filtro químico são mostrados abaixo.
| Material principal | Carcaça galvanizada ou de aço inoxidável com carvão ativado ou meios quimiissorventes impregnados |
|---|---|
| Painel de espessura | 100-450mm profundidade total do equipamento |
| Largura efetiva | Largura nominal do módulo 575-1220mm |
| Comprimento máximo | Comprimento do módulo de até 1220 mm |
| Aço enfrentando espessura | Painéis de carcaça de metal de 0,8-1,2mm |
| Densidade Core | 350-650 kg/m³ para cassetes de meios químicos embalados |
| Condutividade térmica | 14-17 W/(m · K) para componentes inoxidáveis do alojamento |
| Superfície acabado | Aço inoxidável escovado ou invólucro de metal revestido a pó para salas limpas |
| Tipo conjunto | Assentos de filtro com vedação com gaveta de mídia química travada e caixa de ventilador aparafusada |
| Customização | Disponível com base na aplicação pretendida e no ambiente operacional. |
Opções disponíveis
Meios de ácido, base, orgânicos ou dopantesFiltro final HEPA ou ULPAControle de ventilador local, analógico ou de redeTeto-grade ou mini-ambiente de montagem
Planejando uma especificação FFU de filtro químico?
Envie-nos as suas dimensões, condições de instalação, metas de desempenho e acabamento de superfície necessário.
