Chemical filter FFU in complete three-quarter view showing fan and media stages

Peralatan Bilik Bersih Spesifik Industri

Penapis Kimia FFU

Unit penapis kipas siling atau mini-persekitaran yang menggabungkan media kimia fasa gas dengan penapisan zarah akhir untuk kawalan AMC setempat.

Penapisan Kimia Fasa Gas
Kipas EC bersepadu
Penapis Zarah Terakhir
Kaset Media Boleh Ganti

Permintaan sebut harga Semak imbas produk

Pengenalan Produk

Penapis kimia FFU menarik kembali atau udara bilik melalui media fasa gas terpilih sebelum menyampaikannya melalui penapis zarah akhir dan penyebar seragam. Karbon diaktifkan, media impregnated atau chemisorbits campuran boleh dipilih sekitar sasaran pencemar molekul bawaan udara. Kipas EC padat dan laci media modular menyokong pemasangan tempatan di atas persekitaran mini semikonduktor, zon proses sensitif atau kedudukan grid siling.

Ciri-ciri Utama

Kaset kimia-media yang boleh diganti sasaran asid terpilih, bahan cemar asas, organik atau dopant.

Penapis zarah akhir menangkap habuk media dan zarah udara sebelum udara bekalan memasuki zon yang dilindungi.

Kawalan kipas EC menyediakan aliran udara laras untuk mengimbangi tekanan dan pampasan pemuatan penapis.

Laci perkhidmatan membolehkan penggantian media kimia tanpa membongkar perumahan unit lengkap.

Penyelesaian untuk permohonan anda

Proses semikonduktor sensitif memerlukan kawalan bahan cemar molekul serta zarah, selalunya dalam siling terhad atau kedalaman alat-sampul surat.

FFU HEPA konvensional tidak mengeluarkan gas atau bahan cemar molekul udara.Peringkat adsorbent dan chemisorbent khusus keluarkan spesies molekul sasaran sebelum penapisan akhir.

Satu gred karbon sejagat tidak dapat menangani setiap keluarga pencemaran.Kaset Modular membolehkan kimia media dipilih untuk asid, asas, organik atau dopants.

Penggantian media boleh mengganggu zon proses yang dilindungi.Laci perkhidmatan yang boleh diakses memendekkan masa perubahan dan memastikan perumahan kipas/penapis dipasang.

Rintangan penapis yang meningkat mengurangkan aliran udara dari masa ke masa.Kawalan kipas EC boleh laras mengembalikan aliran yang diperlukan dalam julat operasi peralatan.

Permohonan yang biasa

Mini-alam sekitar semikonduktorKawasan proses fotolitografiZon metrologi sensitif bahan kimiaKawalan AMC setempat di atas pengendalian wafer

Parameter teknikal

Nilai-nilai pembinaan yang tipikal bagi unit penapis kipas kimia-penapis yang padat ditunjukkan di bawah.

Bahan Teras	Perumahan keluli tergalvani atau tahan karat dengan media chemisorbent diaktifkan karbon atau kelambu
Ketebalan Panel	Kedalaman peralatan keseluruhan 100-450mm
Lebar berkesan	Lebar modul nominal 575-1220mm
Panjang maksimum	Sehingga panjang modul 1220 mm
Keluli Menghadapi Ketebalan	Panel perumah logam 0.8-1.2mm
Ketumpatan teras	350-650 kg/m³ untuk kaset media kimia yang dipadatkan
Kekonduksian Terma	14-17 W/(m·K) untuk komponen perumah keluli tahan karat
Kemasan permukaan	Keluli tahan karat atau cleanroom-perumahan logam bersalut serbuk gred
Jenis Bersatu	Kerusi penapis Gasketed dengan laci kimia-media latched dan diperketatkan kipas perumahan
Penyesuaian	Boleh didapati berdasarkan aplikasi yang dimaksudkan dan persekitaran operasi.

Pilihan yang boleh didapati

Media asid, bes, organik atau dopantPenapis akhir HEPA atau ULPAKawalan kipas tempatan, analog atau rangkaianPemasangan pada grid siling atau mini-alam sekitar

Merancang spesifikasi FFU penapis kimia?

Hantarkan kepada kami dimensi anda, syarat pemasangan, sasaran prestasi dan kemasan permukaan yang diperlukan.

Berbincang dengan pasukan kami