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Systèmes utilitaires Cleanroom
Scrubber à gaz
Armoire compacte d'épurateur de gaz au point d'utilisation pour traiter un échappement de processus semi-conducteur soluble dans l'eau ou réactif dans l'eau à proximité de la pompe à vide avant le raccordement à l'échappement de l'installation.
- Traitement au point d'utilisation à proximité de la source d'échappement du procédé
- Tour de lavage intégrée, pompe de recirculation et utilitaires surveillés
- Jusqu'à quatre chemins d'entrée chauffés sur la base compacte sélectionnée
Introduction de produit
Le Gas Scrubber est une armoire autonome de réduction des gaz d'échappement au point d'utilisation pour certains procédés de fabrication de semi-conducteurs, photovoltaïques et propres. Les effluents de traitement pénètrent par des voies d'entrée chauffées conçues pour réduire l'accumulation de sous-produits, passent à travers une section de contact avec l'eau et partent à travers une connexion de gaz traité jusqu'à l'échappement de l'installation. Une tour de lavage interne, une pompe de recirculation, un circuit d'eau et de vidange, un service d'azote et une ventilation d'armoire fonctionnent comme un seul paquet surveillé. Parce que la solubilité des gaz, l'hydrolyse, les produits de réaction et la chimie croisée varient considérablement, l'agencement de l'entrée, le liquide de récurage, la stratégie de pH, la logique de purge et la manutention des eaux usées sont sélectionnées pour le processus réel plutôt que supposées à partir de la taille de l'armoire seule.
Key Features
Quatre positions d'entrée chauffées sur la base sélectionnée aident à accueillir des outils multi-chambres tout en limitant le dépôt à froid près de l'entrée
Une première étape de douche et une section de contact verticale avec l'eau de lavage fournissent une interaction contrôlée gaz-liquide
La recirculation à entraînement magnétique évite un joint d'arbre classique dans le trajet de liquide en circulation
Un signal de soupape de dérivation peut être verrouillé avec un équipement de processus et de vide pour un routage à état anormal défini
L'enceinte de sécurité ventilée dirige l'air de l'armoire vers l'échappement de l'installation plutôt que vers la zone de service occupée
Le débit d'eau, le drainage, l'azote et la ventilation de l'armoire peuvent être supervisés comme des permissives de fonctionnement
Les dispositions de lavage in situ réduisent le besoin de démonter les composants d'entrée et de contact humide pour l'élimination de routine du dépôt
Le dosage facultatif du pH prend en charge le contrôle de la chimie lorsque le plan de contamination et d'eaux usées sélectionné l'exige
Un emballage vertical compact préserve l'accès au service tout en minimisant la surface de plancher sous-fab
Des solutions pour votre application
Un épurateur compact fonctionne de manière fiable uniquement lorsque la chimie des gaz, la ségrégation d'entrée, la qualité de l'eau, le drainage, l'échappement et les verrouillages sont conçus comme un processus plutôt que comme des connexions de services publics indépendantes.
Le mélange des échappements de différentes chambres peut former de la chaleur, des solides ou des sous-produits instables avant que la phase humide ne puisse les contrôlerPassez en revue la matrice de recette complète et gardez les chemins d'entrée incompatibles isolés jusqu'à ce que les flux soient manifestement sûrs à combiner.
Les surfaces d'entrée froides peuvent accumuler des condensats ou des solides de réaction et restreindre progressivement le débit d'échappement du processusUtilisez des entrées chauffées lorsqu'elles sont compatibles, surveillez le comportement de la pression et incluez une séquence de nettoyage in situ adaptée au matériau déposé.
La perte de circulation de l'eau, de drainage ou d'échappement d'armoire peut laisser le processus en marche sans réduction efficaceInterlock vérifié le débit d'eau, l'état de la pompe, la disponibilité du drain et la ventilation de l'armoire avec la logique permissive et de dérivation de l'outil de processus.
Un liquide à récurer qui élimine un gaz peut mal réagir avec un autre gaz ou créer un flux d'eaux usées inacceptableSélectionnez la chimie liquide et tout dosage de pH à partir de la composition réelle du gaz, des produits de réaction et des contrôles des eaux usées du site.
Les opérateurs peuvent ne pas savoir si une alarme est causée par l'entrée du processus, la boucle de lavage, les services publics ou l'échappement de l'installationFournir un état local et distant distinct pour la température d'entrée, la recirculation, l'eau, le drain, l'azote, la ventilation des armoires et les conditions d'échappement.
Le service de routine peut exposer le personnel aux gaz résiduels, aux liquides contaminés ou aux dépôts réactifs à l'intérieur de l'armoireUtilisez une séquence de purge et d'isolation approuvée, vérifiez les conditions de zéro énergie et de chimie sûre et entretenez la section humide à l'aide de commandes de protection spécifiques à la tâche.
Les applications typiques
Échappement d'épitaxie à semi-conducteur contenant des sous-produits chlorosilane réactifs dans l'eau examinésÉchappement d'outils de traitement CVD et ALD avec service aux halogénures ou à l'ammoniac sélectionnéÉchappement de gravure en métal et diélectrique nécessitant un traitement local par contact humideOutils de production de cellules photovoltaïques utilisant des gaz de processus réactifs compatiblesFabrication de plaquettes à l'échelle de recherche et lignes pilotes de semi-conducteursOutils de processus de fabrication propre nécessitant une étape de réduction du gaz locale compacte
Paramètres techniques
La base de produit affichée est une armoire compacte à récurer l'eau au point d'utilisation dérivée de l'enveloppe G-WS1000 publiée: environ 914 mm de large, 736 mm de profondeur et 1727 mm de haut. Le candidat combine un boîtier de service enduit de poudre avec une tour de lavage et une tuyauterie PP-H, une pompe de recirculation à entraînement magnétique, quatre positions d'entrée chauffées et séparer l'eau, le drain, l'azote, ventilation et connexions de gaz traité. Le schéma fixe à dix rangées du site utilise des étiquettes orientées panneau; l'épaisseur du panneau enregistre donc la profondeur globale de l'armoire et les rangées du matériau décrivent le représentant PP-H composants à contact humide plutôt que les performances de réduction. La liste des gaz, l'attribution d'entrée, la chimie liquide, les services publics et les verrouillages restent sélectionnés par le processus.
| Matériaux de base | Tour de lavage PP-H et tuyauterie de recirculation à l'intérieur d'un boîtier de service en acier enduit de poudre, avec pompe résistant à la corrosion et interfaces de traitement en acier inoxydable sélectionnées |
|---|---|
| Panneau épaisseur | Profondeur globale nominale de l'armoire de 736 mm pour la base de catalogue de point d'utilisation sélectionnée |
| Largeur effective | Largeur globale nominale de l'armoire de 914 mm pour la base de catalogue de point d'utilisation sélectionnée |
| Longueur maximale | Hauteur totale nominale de l'armoire de 1727mm, à l'exclusion des raccordements des services publics et du dégagement de service requis |
| Acier face épaisseur | Feuille d'enceinte enduite de poudre nominale de 1.0-1.2mm pour le candidat affiché; la jauge finale dépend de la construction de l'armoire sélectionnée |
| Densité Core | Densité représentative d'environ 915 kg/m³ pour le matériau PP-H en contact humide |
| Conductivité thermique | Valeur représentative d'environ 0.22 W/(m · K) pour PP-H température ambiante proche |
| surface finie | Armoire recouverte de poudre blanc cassé chaud, section gris pâle PP-H humide, talons d'entrée en argent naturel, pompe à entraînement magnétique bleue et couleurs de l'indicateur fonctionnel restreint |
| Type joint | Talons chauffés d'entrée de processus et collier de gaz traité avec circuit d'eau PP-H soudé, syndicats de service, connexion d'échappement à brides et interfaces d'eau, de vidange et d'azote séparées |
| Customisation | Disponible en fonction de l'application prévue et de l'environnement d'exploitation. |
Options disponibles
De une à quatre voies d’admission de processus chauffées et séparéesTempérature d'entrée spécifique au gaz et logique de purgeCircuit de lavage fonctionnant uniquement à l’eau ou avec un agent chimique compatibleSurveillance automatique du pH et dosage le cas échéantProcess-tool, dry-pump and bypass-valve interlock packagesWater-flow, level, drain and recirculation-pump supervisionCabinet ventilation and facility-exhaust pressure monitoringRemote alarm contacts and fieldbus status integrationIn-situ wash and deposit-management sequencesAlternative corrosion-resistant wetted materials after compatibility review
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